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换气次数一般性空调系统的换气次数每小时只需 8~10 次,而工业洁净室中的换气次数级别也要12 次,级别则需几百次,显然,换气次数的差别造成风量能耗的---差异。设计中,在洁净度准确定位的基础上,要---足够的换气次数,否则运行结果不达标,洁净室抗干扰能力差,自净能力相应加长等等一系列问题就得不偿失了。
静压差不同级别的洁净室与非洁净室之间不能小于 5pa,洁净室与室外不能小于 10pa 等等一系列要求。控制静压差的方法,主要是供给一定的正压风量,设计常采用的正压装置为余压阀、压差式电动风量调节器和回风口处装设空气阻尼层。近年来,设计中常采用不设正压装置而在初调试中,使送风量大于回风量和排风量的方式,并相应配设自动控制系统也能达到同样效果。
在相对湿度较高的环境中,浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键,可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。相对湿度小于50%时并不重要,但当相对湿度在70%左右时,就成为颗粒之间黏附的主要力量。 到目前为止,在半导体无尘车间、洁净室中迫切需要适当控制的是光刻胶的敏感性。由于光刻胶对相对湿度---敏感的特性,它对相对湿度的控制范围的要求是严格的水准。 实际上,天津洁净工程,相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下,光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然,改变粘性,就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。相对湿度的3%的变异将使保护厚度改变59.2a。此外,在高的相对湿度环境下,由于水分的吸收,使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可 以受到较高的相对湿度的影响;较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着容易,甚至不需要聚合改性剂,如六二硅氮烷(hmds)。
沉降菌指落在地面或物体表面的灰尘中携带的---。在无菌操作台开启的状态下,取内径90毫米的无菌培养皿若干,无菌操作分别注入融化并冷却至45℃的营养琼脂培养基越15毫升,倒置于30~35℃培养箱培养48小时,证明无菌后备用。
将已铺有营养琼脂培养基的培养皿放在区域距地面约1米的规定处(一般每10平方米放置一个平皿),在空气中暴露30分钟,天津洁净工程施工,采集沉降菌,盖好平皿盖儿,置30-35℃培养箱内培养48小时,天津洁净工程,取出计数,车间内应为操作状态。检测沉降菌数量,每碟小于或等于10个,便能达到10万级净化车间标准。
一般来说,沉降菌法监测每月一次便可。净化车间工程常用的仪器有温湿度表、温湿度计、数显风速仪、红外温度计、压差计、多功能声级计、粒子计数器、风量仪等,它们是常规的实时检测设备,帮助检测是否达到10万级净化车间标准。
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