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湿度控制是无尘车间生产必需具备的重要条件，相对湿度是无尘车间、洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件。半导体无尘车间、洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内，允许误差在±1%的狭窄的范围内，例如光刻区或者在远紫外线处理(duv)区甚至更小而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。 近年，在这些规定范围中保持处理空气过程，天津净化工程为大家介绍一下相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素，其中包括： 1、---生长; 2、工作人员感到室温舒适的范围; 3、出现静电荷; 4、金属腐蚀; 5、水汽冷凝; 6、光刻的退化; 7、吸水性。

车间使用的材料墙面和地板材料必须无尘耐腐蚀耐高温不易断裂不易产生静电，天津净化工程价格，并根据房间的不同工况，但还可以根据实际情况做出选择。

压力和气流为了---车间的清洁，车间的密封必须坚固，以防止外部污染的气流进入车间。为实现这一目标，天津净化工程，研讨会必须保持一定的正压力。为了获得所需的压力，必须补充适当的新鲜空气。

辅助设备应使用一些辅助设备，以---净化车间的清洁：如净化车间入口处的空气淋浴房。用于交付物品的转移窗口，天津净化工程公司，这些设备必须适合净化车间的净化要求，以充分---使用不会影响车间和发挥作用。

净化车间人员和物体的控制是无尘车间的主要粉尘来源。当然，生产设备也会产生灰尘，但人和是的灰尘来源。

因此，必须完全控制，例如在进入洁净室之前，天津净化工程施工，---都必须穿过敷料，净化浸湿系统，并---员工数量。物品交付时，必须消毒然后交付，交付必须以正确的方式进行。